描述

功能

• 表征和鑒別小顆粒
• 非常適合于顆粒污染物的鑒定
• 對透明和半透明樣品進行高分辨深度剖析和次表面分析，非常適合于涂層、多層材料、薄膜、包裹體和次表面的缺陷分析
• 有機和無機樣品 — 低至 50cm-1 的寬光譜范圍測量特別適合于無機物的表征，因為它們通常在低頻譜帶有振動峰
• 分子形態(tài)表征 —比較典型的為碳和硅的分子骨架表征，利用拉曼光譜可以非常有效地鑒別藥物和礦物的各種晶型，區(qū)分硅的結(jié)晶態(tài)和無定型態(tài)，以及表征各種碳納米材料
• 表面區(qū)域和橫切面的表征可以借助于于 x-y 軸拉曼成像和 x-z 軸拉曼成像
• 透過玻璃和塑料包裝進行測量 — 允許直接透過證據(jù)袋、安瓿瓶和防護涂層進行測量
• 使用光纖探針可以對樣品倉無法容納的大樣品進行遠程取樣
• 儀器上的 GO（執(zhí)行）按鈕可提供一鍵式操作
• 所有數(shù)據(jù)收集、處理和生成報告步驟都可通過GO存儲，因此用戶在顯微鏡下置入樣品后，只需一個按鈕就可以自動生成報告，無需在計算機上進行操作
• 支持表面增強拉曼 (SERS) 測量
• 激光器、濾光片和光柵等智能模塊都屬于用戶可自行更換的部件，而且還可以與其他 DXR 儀器共享

激光安全性

• 顯微鏡為一級激光安全認證。 （注： 光纖附件和一些其他的附件為3B 級激光裝置，需要激光防范措施和激光安全護目鏡。）
• 觀察時，激光被護目鏡物理阻擋在視徑外，以防止眼睛直接暴露于激光。

驗證

• 備有 DQ/IQ/OQ/PQ 驗證包，包括各種驗證文檔和自動化軟件協(xié)議
• Omnic D/S 軟件符合 CFR 21 Part 11 規(guī)范

卓越的性能

• 空間分辨率——樣品的理想空間分辨率可以優(yōu)于 540nm
• 縱向分辨率——樣品的理想縱向分辨率可以優(yōu)于 1.7μm
• 通過對 CCD 的單次曝光即可獲取 3500-50cm-1 的光譜范圍，避免接譜產(chǎn)生的贗譜。 采用532nm激發(fā)，擴展光譜范圍可達 6,000cm-1
• 支持多個激光器。 532nm、633nm 和 780nm
• 針對所有激發(fā)波長的自動熒光校正功能
• 研究級 Olympus 光學顯微鏡
• 自動強度校正功能使不同儀器和不同激發(fā)波長的拉曼光譜具有可比性
• 多點波長校準功能為全譜范圍的波長提供精確的校準
• 專利的三重光學光譜儀設(shè)計提供完美峰形并保證所有波長的高共焦
• 通過軟件控制共聚焦和高性能光譜采集模式之間的自由切換
• 專利的宇宙射線自動扣除功能和高質(zhì)量激光線濾光片確保獲取無贗譜的光譜
• 去偏振的激光激發(fā)可避免樣品取向效應(yīng)所帶來的光譜偏差
• 激光功率調(diào)節(jié)器能對激光功率實時監(jiān)控，確保在激光器的使用壽命期間，甚至在更換激光器后激光能量的重復(fù)性
• 針對每個激發(fā)波長優(yōu)化光柵，避免多個激發(fā)波長共用一塊光柵所帶來的性能犧牲
• 專利的自動準直功能確保儀器性能的日日如新
• 專利的智能背景自動扣除功能消除了 CCD 暗電流對光譜圖的影響。

推薦用途：

• 司法鑒定 — 痕跡物證和違禁藥物鑒定
• 制藥行業(yè) — 多晶型、顆粒污染物和擴散研究
• 藝術(shù)品修復(fù)/保存 — 鑒別和表征顏料、樹脂、釉彩以及油墨
• 考古學 — 表征角質(zhì)物、貝殼、骨頭和陶瓷仿制品
• 太陽能 — 硅結(jié)晶度；光伏材料的表征
• 聚合物 — 包裹體和凝膠缺陷、風化作用、層壓材料連接層以及結(jié)晶度
• 故障分析 — 界面顆粒和微區(qū)表征。
• 寶石學 — 彩色寶石的快速 鑒定，區(qū)分天然和合成鉆石、表征包裹體和摻雜物
• 納米技術(shù) — 表征石墨烯、碳納米管、DLC 涂層和其他納米結(jié)構(gòu)
• 學術(shù)研究 — 在材料科學、生物學研究和許多應(yīng)用研究領(lǐng)域特別有用